京城西郊。

    计算机发展工业区，第一晶片厂。

    无尘车间内摆放着一个庞然大物，长有近五米，宽三米，高四米，重达十五吨。

    这就是杨学斌举国之力制造出来的DUV光刻机，可以生产150纳米的晶片，这种技术水平相当于现实世界的二十世纪末的水平。

    不过这并不是它的潜力。

    通过ArF浸没式，经过多重曝光后，甚至可以制造出七纳米的晶片。

    「启动！」

    随着杨学斌一声令下，DUV光刻机启动，并开始试生产。

    为了这台光刻机，杨学斌付诸了无数心血，光是调试他就花了三个月的时间。

    今天终于到了开花结果的时候了。

    经过处理的八英寸矽片被送入光刻机内进行光刻，随后便是显影丶刻蚀和去胶等步骤，然后不断重复这一过程80次，最终在矽片上构建3D电晶体结构。

    晶片生产是个漫长的过程，从投料到切割封装，以及经过最终测试，大概需要十周，也就是两个月的时间。

    杨学斌自然不可能守在这里，他还要加紧督促软体组完成作业系统的编写，像其他软体基本上都已经完成了。

    1969年5月25日。

    150纳米的晶片经过了最终测试，只不过良品率有些低，还不到百分之五十。

    不过相对于初生产，这已经很不错了。

    随着技术的不断升级，接下来的良品率自然会慢慢提升。

    DUV光刻机投产成功，杨学斌并没有第一时间上报，而是加紧其他设备的最终研发，像显卡丶音效卡丶路由器等都需要用到晶片。

    晶片，是整个弯道工程的最后一块拼图。

    ……

    时间飞逝，转眼间又是三个月。

    计算机发展工业区。

    大会议室。

    此时，数百技术人员齐聚，看着杨学斌熟练的组装出一台桌上型电脑